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国外最新硅片制造技术专利
1
硅片的制造方法和硅片（日本-26页）
2 硅片及硅单晶的制造方法（日本-22页）
3 基本无生长缺陷的外延硅片（美国-58页）
4 单晶硅片抗机械力的提高（法国-10页）
5 用来洗涤硅片的方法（美国-12页）
6
控制重掺锑或砷的硅片中氧含量的方法和装置（美国-20页）
7 硅片的制造装置（日本-23页）
8 一种制造硅片的方法（韩国-8页）
9 憎水性硅片的清洗方法（美国-18页）
10
处理薄晶体硅片和晶体硅太阳能电池的方法（德国-13页）
11 硅片热处理的方法（美国-19页）
12
硅片曝光设备自动装片台的支承单元（荷兰-7页）
13
各向异性腐蚀硅片的改进方法与硅片腐蚀溶液（美国-12页）
14
六方的碳化硅片晶和预型件以及制备和使用它们的方法（美国-26页）
15
制磷掺杂源用的掺杂组合物及掺杂硅片的方法（美国-13页）
16
一种用于对准掩膜和硅片的相关位置的方法及实现该方法的装置（日本-24页）
推广期间全套专利技术光盘仅售3800元
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